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清溢光電:已實現180nm工藝節點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證及量産
9月13日,清溢光電在互動平台回複稱,半導體芯片掩膜版技術方面,公司已實現180nm工藝節點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證及量産,正在開展130nm-65nm半導體芯片掩膜版的工藝研發和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發規劃。公司堅持“量産一代,研發一代,規劃一代”的研發方式,逐步向新技術發展,提高公司的技術能力及市場競爭力。 公司擬與廣東省佛山市南海區人民政府簽訂合作協議書,投資建設佛山生産基地項目。該項目包括高精度掩膜版生産基地建設項目及高端半導體掩膜版生産基地建設項目,合計擬投資人民幣35億元。其中高端半導體掩膜版生産基地建設項目將分三期建設,合計擬投資人民幣15億元。公司立足中国面向全球,通过两座新型智能化的掩膜版生产基地的投建,将进一步扩大产能,提升産品精度和品质,力争成为全球范围内掩膜版行业中产能规模较大、市场占有率较高、营业收入与利润增长较快的行业领先者。 點擊圖片閱讀相關資料:
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