10月19日消息，清溢光電在接受機構調研時表示，半導體芯片掩膜版技術方面，公司已實現180nm工藝節點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證及量産，同步開展130nm-65nm半導體芯片掩膜版的工藝研發和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發規劃。半導體掩膜版業務方面，公司目前已擁有業內先進的激光光刻機，CD精度可達到130nm掩膜版的要求。佛山生産基地項目擬引入的光刻設備將不限于激光光刻機，也將適時考慮引入電子束光刻機。公告顯示，清溢光電佛山生産基地項目總投資人民幣35億元，包括“高精度掩膜版生産基地建設項目”和“高端半導體掩膜版生産基地建設項目”，項目情情況如下：

      項目一：高精度掩膜版生産基地建設項目 投资金额：本项目将分三期进行建设，合计拟投资人民币20亿元，其中一期拟投资8亿元；二期拟投资3亿元，三期拟投资9亿元。 项目建设情况：一期、二期项目拟购置土地50亩（具体面积以最终挂牌面积为 准），自签订《土地出让合同》之月起，在12个月内开工建设、36个月内投产。三期 项目将根据宏观环境、市场趋势等情况综合确定及推进。 项目二：高端半导体掩膜版生产基地建设项目投资金额：本项目将分三期建设，合计拟投资人民币15亿元，其中一期拟投资6.05亿元，二期拟投资2.95亿元，三期拟投资6亿元。 项目建设情况：一期、二期项目拟购置土地30亩（具体面积以最终挂牌面积为 准），自签订《土地出让合同》之月起，在12个月内开工建设、36个月内投产。三期 项目将根据宏观环境、市场趋势等情况综合确定及推进。2023年上半年，清溢光电营业收入较上年同期增长7,554.60万元，同比增长22.10%， 主要系厂商加大新品开发的力度，带动了掩膜版的需求增长，公司接受的订单数量有提升。

點擊圖片閱讀相關資料：

登錄www.w-coating.com点击《涂布材料库》查阅更多産品资料：

【免責聲明】本文來源網絡且僅代表作者本人觀點，與塗布在線無關。塗布在線對文中陳述、觀點判斷保持立，不對所包含內容的准確性、可靠性或完整性提供任何明示或暗的保證。請讀者僅作參考，並請自行承擔全部責任。轉載的目的在于傳遞更多的信息及分享，提供平台交流，並不意味著贊同其觀點或證實其真實性，也不構成其他建議，如有侵權請聯系刪除。