11月5日晚間，彤程新材公告稱，公司全資子公司上海彤程電子材料有限公司（簡稱“彤程電子”）在上海化學工業區投資建設年産1.1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目的工程階段已竣工，目前已逐步進入試生産階段。根据公告，彤程电子上海化学工业区工厂占地36200平方米，设计能力年产1千吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯EBR试剂（光刻胶去边剂）。同时在国际国内半导体厂商及光刻胶厂商战略合作推动下，完成了产线优化及品控升级。在半导体光刻胶方面，彤程电子的年产300/400吨ArF及KrF光刻胶量产产线，通过采用超高纯PFA（涂层）设备、引入高精度物料流量控制系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统，可以实现ppt级金属杂质及0.1um级别的颗粒管控，具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。对此，有业内人士表示，年产300/400吨ArF及KrF光刻胶的产能算比较大了，彤程新材半导体光刻胶品类也较多，此次扩产产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。半导体光刻胶是备受市场关注的领域，彤程新材在半导体光刻胶领域实力如何？在此次进展公告中，公司透露，在ArF光刻胶産品方面，公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂産品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及産品验证阶段，能否验证通过尚存在一定的不确定性。

  在G线、I线及KrF光刻胶産品方面，彤程新材G线光刻胶已经占据国内较大的市场份额；I线光刻胶已广泛应用于国内6英寸、8英寸、12英寸集成电路产线，支持的工艺制程涵盖14nm及以上工艺。KrF光刻胶量産品种达20种以上，稳定供应国内头部芯片制造商。此前，彤程新材在2023年半年报中披露，报告期内公司新産品销售收入占比达到半导体光刻胶业务收入总额的41.36%。今年上半年，KrF光刻胶依然保持着较快的增速达到52.56%；I线光刻胶方面，ICA光刻胶开始放量，增长率达到96.82%。客户方面，在2022年年报中，彤程新材披露，截至2022年底公司共有22家12英寸客户，20家8英寸客户，8/12英寸客户的营收贡献率是公司半导体光刻胶业务营收贡献的主力。新産品方面，2022年公司共有68支新品通过客户验证并获得订单，新産品销售额在半导体光刻胶总收入中的占比达到40%，再创历史新高。产销方面，2021年，彤程新材新增21支新産品通过客户验证并获得订单，新産品销售额在半导体光刻胶总收入中的占比达到25.96%，创历史新高。産品序列方面，21支新品包括248nm（KrF）光刻胶10支、I线光刻胶9支、LED及先进封装用光刻胶2支，如国内首款248nm负性光刻胶DKN系列産品，高分辨I线光刻胶C7600系列産品及厚膜ICA光刻胶C9120系列産品。彤程新材同时披露，为解决ArF光刻胶所需的高纯溶剂及国内先进工艺制程的需求，公司已经搭建完成高纯EBR装置，成为国内首家建有高纯EBR精馏塔设备及掌握高纯精馏技术的本土溶剂供应商。公司生产的EBR溶剂已达到G4等级规格，可满足国内40纳米以下工艺制程的芯片制造技术需求，年产2万吨的规模量产能力可有效满足国内先进制程需求。公司预计第四季度将完成高纯度G5等级EBR的验证，目前已在国内几家先进芯片制造商中逐步推动産品验证。

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