|
清溢光電:正推进130nm-65nm PSM和OPC工艺的掩膜版开发清溢光電(688138.SH)接受特定对象调研时表示,半导体芯片掩膜版技术方面,公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,已实现150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证,正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。清溢光電在第三代半導體领域,公司已积累了较多客户。公司目前了解到客户的制程要求多为180nm及以上,现在公司深圳工厂可以覆盖第三代半導體掩膜版需求。清溢光電在半导体掩膜版领域有20多年的行业经验,并非后进入者,较早便和一些国际上一流的企业开展合作,始终专注于该行业;其次在客户资源方面,公司拥有较多优势,目前的客户包含国内一些比较成熟的晶圆厂。
客户既有250nm、180nm的掩膜版需求,也有更高节点掩膜版的需求,迫切地希望公司能够加快投资步伐和技术突破。此外,公司掩膜版産品将涵盖第三代半導體、先进封装等多层次,满足客户对于掩膜版多层次需求。清溢光電目前没有进入到10代的规划,主要基于以下两方面原因:1、10代掩膜版的应用场景不多,市场需求相对较少,10代掩膜版主要应用终端産品为电视显示屏、工业控制显示器等,显示像素要求不高,且终端産品更新换代速度相对较慢,每套掩膜版使用周期较长,下游面板厂商开模需求相对较少;2、目前10代掩膜版光刻产能过剩,且对産品精度要求不高,10代掩膜版较6代的AMOLED/LTPS等高精度掩膜版不具備優勢。 點擊圖片閱讀相關資料:
登錄www.w-coating.com点击《涂布材料库》查阅更多産品资料: 【免責聲明】本文來源網絡且僅代表作者本人觀點,與塗布在線無關。塗布在線對文中陳述、觀點判斷保持立,不對所包含內容的准確性、可靠性或完整性提供任何明示或暗的保證。請讀者僅作參考,並請自行承擔全部責任。轉載的目的在于傳遞更多的信息及分享,提供平台交流,並不意味著贊同其觀點或證實其真實性,也不構成其他建議,如有侵權請聯系刪除。 |